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產品名稱:

全反射X熒光光譜儀

產品型號: TX 2000
更新時間: 2024-03-06
品牌: GNR/津鈉
生產地址: 意大利
TXRF全反射X熒光光譜儀分析原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對比的是,傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生,同時減小了載體的背景和噪聲,亦可減少樣品使用量。
  • 詳細內容


  TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對比的是,傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生,同時減小了載體的背景和噪聲,亦可減少樣品使用量。
  TX2000 將全反射和傳統的能量色散集成在同一臺儀器上,創新光學編碼器的步進電機,角度測量,軟件控制Mo/W靶可自由切換,采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測器。
  全反射X熒光光譜儀應用范圍
  TX2000 可檢測從鈉Na到钚Pu所有元素含量,可進行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),廣泛的應用在環境分析(水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物),制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素),法醫學(微小證據分析),化學純度分析(酸、堿、鹽、溶劑、水、超純試劑),油品分析(原油、輕質油、燃料油),染料分析(墨水、油漆、粉末),半導體材料分析(揮發相分解),核材料工業(放射性元素分析)。
  全反射X熒光光譜儀主要特點
  1、單內標校正,有效簡化了定量分析,無基體影響;
  2、對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析;
  3、多元素實時分析,可進行痕量和超痕量分析;
  4、不受樣品的類型和不同應用需求影響;
  5、*的液體或固體樣品的微量分析,分析所需樣品量??;
  6、優良的檢出限水平,元素分析范圍從鈉覆蓋到钚;
  7、動態線性范圍;
  8、無需任何化學前處理,無記憶效應;
  9、非破壞性分析,運行成本低廉。
  根據分光系統的不同,XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種,二者結構示意如下圖:


  在X熒光譜儀范圍內,與波長色散譜儀(WXRF)方法比較,由于TXRF分析技術用樣量很少,也不需要制作樣品的煩瑣過程,又沒有本底增強或減弱效應,不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內標法,對環境溫度等要求很低。因而在簡便性、經濟性、用樣量少等方面,都比WXRF方法有明顯的優越性。
 
  TXRF技術可以對從氧到鈾的所有元素進行分析,一次可以對近30種元素進行同時分析,這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析(NAA)等方法相比較,TXRF分析方法在快速、簡便、經濟、多元素同時分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優勢。

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